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-刻蝕形貌好、工藝性能優(yōu)越
-高選擇比、高刻蝕速率
-低擁有成本和消耗成本
晶圓尺寸：6/8寸兼容
適用工藝：等離子體刻蝕
適用材料：SiO2，Si3N4，etc.
適用領(lǐng)域:化合物半導(dǎo)體、MEMS、功率器件、科研等領(lǐng)域
SiO2 4um SiO2 2um SiN 2um
產(chǎn)品中心
生產(chǎn)基地：上海市浦東新區(qū)康橋東路1369號(hào)C棟220
電話：400-1521-605；18049905701（微信同號(hào)）
Email：18049905701@189.cn
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? 2019 上海沛沅儀器設(shè)備有限公司 備案號(hào)：滬ICP備19029303號(hào)-1 等離子清洗機(jī)|等離子去膠機(jī)
技術(shù)支持：摩恩網(wǎng)絡(luò)
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